了解真空鍍（dù）膜和光學鍍膜（mó）的區別

1、概念差異

1. 真空鍍（dù）膜是指在高真空條件（jiàn）下加熱金（jīn）屬或非金屬材料，使其在（zài）被鍍件(金屬、半（bàn）導體或絕緣體)表麵（miàn）蒸發（fā）凝結形成（chéng）薄膜的一（yī）種方（fāng）法。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2. 光（guāng）學鍍膜是指在光學元件表麵塗覆一層(或多層)金屬(或介電)薄膜的工（gōng）藝。在光學（xué）元件（jiàn）表麵塗膜的目的是為（wéi）了減少或增加光的（de）反射、分束、分（fèn）色、過濾、偏振等要求。常用的包覆（fù）方法有真空包覆(物理包覆的一種)和化學包覆。

2、原則差異

1. 真空鍍膜是（shì）真空應用的一個重要方麵，它（tā）以真空技術為基礎，利用物理或化（huà）學方法，吸收了電子束、分子束、離子束、等離（lí）子（zǐ）體束、射頻（pín）、磁控管等一（yī）係列新技術，為科學研究（jiū）和實際生產（chǎn）提供了薄膜製備的新工藝。簡單地說，就是（shì）在真空中蒸發或濺射金屬、合金或化合物（wù）以使其凝固並沉積在塗層物體(稱為基材、襯底或襯底)上的方（fāng）法。

2. 光的（de）幹涉在（zài）薄膜光學中有著廣泛的應用。光學薄膜技術常用的方法是（shì）通過真空（kōng）濺射在玻璃基板上塗覆薄膜，一般用來控製基板對入射（shè）光束的反射率和透（tòu）射率，以滿足不同的需要。為了消除光學元件表麵的反射損失，提高成像質量，在表（biǎo）麵（miàn）塗（tú）上一層或多（duō）層透明的介電膜，稱為抗反射膜或抗反射膜。

隨（suí）著激光技術的發展，對膜層（céng）的反射率和透射率有了不同的要求，促進（jìn）了多層高反射膜和寬帶增透膜的發展（zhǎn）。為滿足各（gè）種（zhǒng）應用（yòng）的需要，采用高反射膜製造偏光反射膜、彩色光譜膜、冷光膜、幹涉濾光片等（děng）。光學元件表麵塗覆後，光在膜層上多次反射透射，形成多束幹涉。通過控製膜層的折射率和厚度，可以得到不同（tóng）的光強分布（bù），這是幹涉鍍膜的基本原理。

3、方法和材料的差異

1. 真空鍍膜法

(1)真空蒸發鍍:將待鍍基材清洗幹淨，放入鍍膜室。抽真空後，將薄膜材料加熱到高溫，使蒸（zhēng）氣達到約13.3Pa，使蒸氣（qì）分子飛到基片表麵，凝結成薄膜。

(2)陰 極濺射鍍:將待鍍基材置於（yú）陰 極的對麵（miàn），在真空室中引入（rù）惰性氣體(如氬氣)，保持（chí）壓力約1.33-13.3Pa，然後（hòu）將陰 極接在2000V直流電源（yuán）上刺激輝光放電。正氬離子（zǐ）撞擊陰（yīn） 極，使其釋放出原子。濺落的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上，形成薄膜。

(3)化學氣相沉積:通過對選定的金屬或（huò）有機化合物進行熱分解（jiě）得到沉積薄膜的過程。

(4)離子鍍:離子鍍本質上是真空蒸發鍍和陰 極濺射鍍的有機結合，具（jù）有兩者的工藝特點。各種塗覆（fù）方式（shì）的優缺點如表6-9所示。

2. 光學鍍膜（mó）方法用材料

(1)氟化鎂:純度高（gāo）的無色（sè）四方結晶粉末，用於光學鍍膜，提高透光率，防止坍塌點。

(2)二（èr）氧化矽（guī）:無（wú）色透明晶體，熔點高，硬度高，化學穩定性好。純度高，用（yòng）於製備高品質SiO2塗層，蒸發狀態好，無坍塌點。根據使（shǐ）用要求分為紫外線、紅外線和（hé）可見光。

(3)氧化鋯:白色重晶態，具有高折射率和耐高溫性能，化學性質穩定，純（chún）度高。用於製備無坍塌點（diǎn）的高質量氧化鋯塗層。