MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主要型號：

主要（yào）特點：
   A 明顯改（gǎi）善（shàn）靶麵電荷積（jī）累現象，減小（xiǎo）濺射表（biǎo）麵的打火次數，提高膜層質（zhì）量。
   B 具有平均電源穩定功能（néng），具有理想的電壓陡降特性，
充分滿足磁（cí）控濺射工藝過程的連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻（pín）率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模（mó）擬量接口控製，可選配RS485通訊接（jiē）口。
采用先進的PWM脈寬調製（zhì）技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小（xiǎo）、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係（xì）列產品采用先進的DSP控（kòng）製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗（kàng）短路（lù）功能，
具有（yǒu）極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗（xǐ）工藝的穩定性（xìng），又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節（jiē）；
方便維護，可靠（kào）性高（gāo）；
PLC接口和RS485接口擴（kuò）展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

單極脈衝磁控濺射適用於金（jīn）屬、合（hé）金及石墨等靶材鍍（dù）製金屬膜（mó）、碳（tàn）膜和（hé）部分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗，這種清洗（xǐ）要求很高，達到分子級。在清洗槽中分別（bié）放置各種清洗液，並采用（yòng）超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完後，放進真空艙內，在此過程中要特別注意（yì）避（bì）免空氣（qì）中的灰塵和垃圾再黏附在鏡（jìng）片表麵。最後（hòu）的清（qīng）洗是在真（zhēn）空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰（huī）塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最（zuì）後的清洗（xǐ）是在真空艙（cāng）內鍍前進行的，放置在真空艙（cāng）內的離子槍將（jiāng）轟擊鏡片的表麵（例如用氬（yà）離子（zǐ）），完成（chéng）此道清洗工（gōng）序後即進（jìn）行減反（fǎn）射膜的鍍膜。

真空鍍（dù）膜電源（yuán）為（wéi）什麽在現在會應用那麽多呢，有哪些明顯的效果？

概念的區別：

1、真空鍍（dù）膜是指（zhǐ）在高真（zhēn）空的條件下加熱（rè）金屬或非金屬材（cái）料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍（dù）上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工（gōng）藝過程。在光學零（líng）件表麵鍍膜的目的是（shì）為了（le）達到減少或增（zēng）加光的反射、分束、分色、濾（lǜ）光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真（zhēn）空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜（mó）。