江蘇MS係列（liè）勵磁多波形（xíng）電源

主要型號：

主要特點：
   A 可選擇三角波（bō）、矩形波、正弦波三種波形，波形的最（zuì）高值和最低（dī）值可獨立設置。
   B輸出電壓範圍：-40V~+40V。
   C波形頻率（lǜ）範圍：0.1-50Hz
   D三角波、矩形波占空比10%~90%
   E 可選擇手動控製（zhì）/模擬量接（jiē）口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用（yòng）進口IGBT或MOSFET作（zuò）為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全（quán）、性能穩定可靠，生產工藝（yì）嚴格完善。
該係列產（chǎn）品采用先進（jìn）的DSP控製係統，充分保證鍍膜（mó）工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及（jí）抗短（duǎn）路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶（bǎ）麵清洗速度（dù）；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接（jiē）口和RS485接口擴展功能，方（fāng）便實現自動化控（kòng）製。

主要用途：

MS係列（liè）勵磁多波形電（diàn）源選擇（zé）多種電壓波形輸出。通過驅（qū）動多弧靶（bǎ）外圍磁場線（xiàn）圈，產生周期性可變磁磁場，使多弧輝光由原來的集中放電變為均勻放電，提高工件膜層質量

真空（kōng）鍍膜電源廠家告訴你高頻開（kāi）關電鍍電源應用在金屬表麵處理及小功率範圍內的國內市場已經接受，具有廣（guǎng）闊的市場前景。但產（chǎn）品（pǐn）主要局限於1500A以下的（de）中小功率領域，在國內也隻有少量廠家生產，從技術角度看主要限於硬開關變換模（mó）式和模擬控製方式，可靠性、EMC及工藝結構等方麵具有明顯的局限性，同焊接等領域全麵推廣應用開關式電源的景況具有較大差距（jù）。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金（jīn）屬（shǔ）材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而（ér）形成薄膜的一種方法。

真空鍍膜這（zhè）一（yī）塊是真空應用（yòng）領域（yù）的重要方麵，在真空中以真空技術為基礎（chǔ），把物理方法和化學（xué）方法利（lì）用起（qǐ）來，通過吸收分子束、離子束、電子束、等離子（zǐ）束、射頻和磁控等一係（xì）列高新技術，在科學研究和實際生產中，為薄膜製備（bèi）提供一種新工藝，簡單的一點（diǎn）來說，要（yào）在真（zhēn）空中利用合金、金屬或化合物（wù）進行蒸發（fā）和濺射，並讓被塗覆的物體（有基片、稱基板、基體等等）進行凝固並沉積，這種方法（fǎ）稱為真空鍍膜，那真空鍍膜電源就可想而知，眾所周知，在一些材料的（de）表麵上鍍上一層薄膜，就可以使這種（zhǒng）材料具有多種性能，例（lì）如良好的（de）物理和化學性能並且是嶄新的；