脈（mò）衝磁控濺射電源簡介

說起單極脈衝磁控（kòng）濺射電源，可能有點困惑，但我想說的是（shì），它是對直流磁控濺射電源的升級，是不是突然明白了？脈衝磁控濺射是用矩形波電壓脈衝電源代替傳統直流電（diàn）源的（de）一種方法。脈（mò）衝濺射（shè）可以有效地抑（yì）製電弧的產生，消除由此產生的薄膜缺陷，同時可以提高濺射（shè）的沉積（jī）速率，降低沉積溫度等一係列顯著優點，是（shì）濺（jiàn）射絕緣材料沉積的精選工藝。一個（gè）周期有正電壓和負電壓兩個階段，在負電壓段中，電源作用於靶材的濺射，正電壓段將（jiāng）電子積累（lèi）的（de）正（zhèng）電荷引入靶材表麵，使表麵清潔，露出金屬（shǔ）表麵。施加在（zài）靶材上的脈衝電壓與一般磁控濺射的脈衝電壓相同！對於400~500V，電源頻率在（zài）10~350KHz，在（zài）保證穩定放電的前提下，應盡可能低地取頻率#因為等離子體中的電子相對於離子具有更高的遷移率，所以正電壓值隻需要是負電壓的10%到20%，就（jiù）可以有（yǒu）效地（dì）中和積聚在靶（bǎ）表麵的正電荷。占空比的選（xuǎn）擇確保了濺射（shè）過程中靶表麵積（jī）累的電荷在正電壓階段可以完全被中和，從而盡可能地（dì）提高占空比（bǐ），以實現電源的較大效率。

單極脈衝磁控濺射電源的優（yōu）點是，它可以有效地（dì）抑製電弧的產（chǎn）生，消除由此產（chǎn）生的薄膜缺陷，同時（shí）可以提高濺射的沉積速率，降（jiàng）低沉積溫度等（děng）一係列顯著優點，是沉積濺射（shè）絕緣材料的較佳工藝