在電子科技快速發展的時代中,電源的應用可以說是隨處可見的,或許正是因為電源的普(pǔ)遍應用,所以電源的類型(xíng)也隨之(zhī)而多樣。鍍膜電(diàn)源(yuán)是眾多電源類型中的一種,這種電源與普通的電源有一定的區別,單是電源的外觀就有明顯的不同。鍍膜電源,顧名思義(yì)就是(shì)在電源的表麵鍍有一層(céng)保護膜。之所以會在電源表麵鍍膜,其目的就是為了保護電源不被外界因素而損壞。
對於真(zhēn)空鍍膜電源廠(chǎng)家來說,他們所知道的數不勝數,電源的分(fèn)類也是有一定依據的。電源的類型一般根據行業(yè)的性質來區別。例如,工業(yè)中使用的電源是(shì)工業(yè)電(diàn)源。電源還包括了弧電源,弧源,真空鍍膜(mó)電源,鍍膜弧電源,真空鍍膜弧電源,真空弧(hú)電源,鍍膜(mó)電源等不過問題(tí)來了,為(wéi)什麽真空鍍膜電(diàn)源(yuán)廠會在這些電源裏麵加多一項工藝步(bù)驟,即真空鍍膜?
首先先解釋一下真空鍍膜(mó)的意義,真空鍍膜是指在高真空的條件下加(jiā)熱金(jīn)屬或非金屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體(tǐ))表麵而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻(gè)等。真空鍍膜是真空應用領域的一個重要(yào)方麵,它(tā)是以真空(kōng)技術為基礎,利用物理或化學方法,並吸收電子束、分子(zǐ)束、離子束、等離子束、射(shè)頻和磁控等一(yī)係列新技術,為科學研究和實(shí)際生產提供薄膜製備的一種新(xīn)工藝(yì)。簡單地說,在真空中把金屬、合(hé)金或化合物進行蒸發或濺射,使其在(zài)被塗覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固並沉積的(de)方(fāng)法,稱為真空鍍膜。