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真（zhēn）空（kōng）鍍膜（mó）電源廠家（jiā）的（de）在（zài）真空離子鍍膜中，尤其對於多弧離子鍍膜，無論是裝飾鍍還是工具鍍，轟偏（piān）電源的好壞對於成膜質量都起著非常關鍵的作用。裝飾鍍和工具鍍對膜層質量的要求（qiú）有相同之處又各有（yǒu）側重。
離子（zǐ）鍍（dù）是真空室中，利用氣體放電或被（bèi）蒸發物質部分（fèn）離化，在氣體離子或被蒸（zhēng）發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸（zhēng）發物或反應（yīng）物沉積在（zài）基片上。離（lí）子鍍把 輝光放電現象、 等離子體技術和真（zhēn）空蒸發三者有機結合起來，不僅能明（míng）顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用範圍。多（duō）弧電源（yuán）其優點是薄膜 附著力強，繞射性好，膜材廣泛等。D.M.首次提出離子鍍原理，起工作過程是：
先將真空室抽至4×10（-3）帕以上的真空度，再接通高（gāo）壓（yā）電源（yuán），在蒸發源與基片之間建立一（yī）個（gè）低（dī）壓氣體放電的 低溫等離子區。基片電極接上5KV直流負高壓，從而形成光放（fàng）電陰極。輝光放電（diàn）去產生的惰性氣體離子進入陰極暗區被（bèi）電場加速並轟擊基片表麵，對其（qí）進行（háng）清洗。然（rán）後計入鍍膜過程，加熱使鍍料氣化，起原子進入等離子（zǐ）區，與惰性氣（qì）體離子及（jí）電子發生碰撞，少部分產生離化。離化後的例子及氣體離子以較高能量轟擊鍍層表麵，致使膜層質（zhì）量得到改善。
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