浙江MS係列勵磁多波形電源

主要型號：

主要特點：
   A 可選擇三角波、矩形波、正弦波三種波形，波形（xíng）的最高值和最低值可獨立設置（zhì）。
   B輸出電壓範圍：-40V~+40V。
   C波形頻率範圍：0.1-50Hz
   D三角波、矩形波占空比10%~90%
   E 可選擇手動控製/模擬量接口控（kòng）製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功（gōng）率開關器（qì）件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產（chǎn）品（pǐn）采用先進的DSP控製（zhì）係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有（yǒu）抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配（pèi）能力，既保證了靶麵清（qīng）洗工藝的穩定性（xìng），又提高了靶麵清洗速度（dù）；
主要參數（shù）均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途（tú）：

MS係列勵磁多波形電源選擇多種電壓波形（xíng）輸出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈，產生周期性可變磁磁（cí）場，使多弧輝光由原來的集中放（fàng）電變為均勻放（fàng）電，提高工件膜層質量

真空鍍膜電源廠家告訴你高頻開關電鍍電源應用在金屬表麵處理及小功率範圍內的國（guó）內市場已經接受，具有廣闊的市場前景。但產品主要局限於1500A以下（xià）的中小功率領域（yù），在（zài）國內也隻有少量廠家生產，從（cóng）技術角度看（kàn）主要限於（yú）硬開關變換模式和模擬控製方式，可（kě）靠性、EMC及工藝結構等方麵具有明顯的局（jú）限性，同焊接等領域全麵推廣（guǎng）應（yīng）用開關式電源（yuán）的景況具有較大差距。

真空鍍膜是指在高真空（kōng）的（de）條件下（xià）加（jiā）熱（rè）金屬或非（fēi）金屬材料，使其蒸發並（bìng）凝結於鍍件（金屬（shǔ）、半導體（tǐ）或絕緣體（tǐ））表麵而形成薄膜的一種方（fāng）法。

真（zhēn）空鍍膜這一塊是（shì）真空應（yīng）用領域的重要方麵，在（zài）真空中以真空技術為基礎，把物理方（fāng）法和（hé）化學方法利用起來，通過吸（xī）收分子束（shù）、離子束、電子束、等離子束、射頻和磁控等一係列高新技術，在科學研究和實際生產中，為薄（báo）膜製備提供一種（zhǒng）新工藝，簡單的一點來說，要在（zài）真空中利用合金、金屬或化合物（wù）進行蒸發和濺射，並讓被塗覆的物體（有基（jī）片、稱基板、基體等等）進行凝固並沉（chén）積，這種方（fāng）法稱（chēng）為真空鍍（dù）膜，那真空鍍膜電源就可想而知，眾所周知，在一些材料的表麵上鍍上一（yī）層薄膜，就可以使這種材料具有多種（zhǒng）性能，例如良好的物理和（hé）化學性能並且是嶄新的；