上海MSDP單極脈衝磁（cí）控濺射電（diàn）源

主（zhǔ）要（yào）型號：

主（zhǔ）要特點：
   A 明顯改善靶麵電荷積累現象（xiàng），減小（xiǎo）濺射表麵的打火次數，提高膜層質量。
   B 具有平均電源穩定功能，具有理想的電壓陡降特性，
充分滿足磁控濺射工藝過程的（de）連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比（bǐ）20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模擬量接口控製（zhì），可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製（zhì）技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功（gōng）率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複（fù）性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短（duǎn）路功能，
具有極佳的負載匹（pǐ）配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速（sù）度（dù）；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可（kě）靠性高；
PLC接口（kǒu）和RS485接口擴（kuò）展功能，方便實現自動化控製（zhì）。

主要用途（tú）：

單極（jí）脈衝（chōng）磁控濺射適用於金屬、合金及石墨等靶材鍍製金屬（shǔ）膜、碳膜（mó）和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片（piàn）在（zài）接受鍍膜前必須進行預清（qīng）洗，這種清洗要求很高，達到分子級。在清（qīng）洗槽中分別（bié）放置各種清洗液，並采用超聲波加強清（qīng）洗效（xiào）果，當鏡片（piàn）清洗完後，放進真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空（kōng）艙內（nèi），在（zài）此過程中要（yào）特別（bié）注意避免空氣中的（de）灰塵和垃圾再黏（nián）附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內鍍前進（jìn）行的，放置在真空艙內（nèi）的離子槍將（jiāng）轟擊鏡片的表麵（例如用氬離子），完成此道清洗工序後即進行減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什麽在現在會（huì）應用那麽多呢，有哪些明顯（xiǎn）的效（xiào）果？

概念（niàn）的區別（bié）：

1、真空鍍膜是指在高真（zhēn）空（kōng）的（de）條件（jiàn）下加熱金屬或非金屬（shǔ）材料，使其蒸發並凝結於鍍（dù）件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的（de）一種方法（fǎ）。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零件（jiàn）表麵上（shàng）鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄（báo）膜的工藝過程。在光學零件表麵鍍膜（mó）的目的是為了達到減少或增加光（guāng）的反射、分（fèn）束、分色、濾光、偏振等要求。常（cháng）用（yòng）的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。