江蘇MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主要（yào）型號：

主要特點（diǎn）：
   A 明顯（xiǎn）改善靶麵電荷（hé）積累現象（xiàng），減小濺射表麵的打火次數，提高（gāo）膜層質量。
   B 具有平均電源穩（wěn）定功能，具有理（lǐ）想的電壓陡降特性，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模擬量（liàng）接口控製（zhì），可選配RS485通訊接口（kǒu）。
采（cǎi）用先進的（de）PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為（wéi）功（gōng）率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工（gōng）藝嚴格完善（shàn）。
該係列產品采用（yòng）先進的DSP控製係統（tǒng），充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放（fàng）電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可（kě）大範圍連續調節；
方（fāng）便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口（kǒu）擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

單極脈衝磁控濺射（shè）適用於金屬、合金及石（shí）墨等靶材鍍製金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片在接受（shòu）鍍膜前（qián）必須進行預清（qīng）洗，這種清洗（xǐ）要求很高，達到分子（zǐ）級。在（zài）清洗槽中分別放置各種清洗液，並采（cǎi）用超聲波加強清洗效果，當（dāng）鏡片清洗完後，放進真空艙內，在此過程中要特別注意避（bì）免（miǎn）空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內（nèi），在此過程中要特別注意避（bì）免空氣中的灰塵和（hé）垃圾再黏（nián）附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內鍍前進行的（de），放置在真空（kōng）艙內（nèi）的離子槍將轟（hōng）擊鏡片的表麵（例如用氬離子），完成此道清（qīng）洗工（gōng）序後即進行減反射（shè）膜的鍍膜。

真（zhēn）空鍍膜電源為什麽在現在會應用那麽多呢，有哪些明顯的效果？

概念的區別：

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加（jiā）熱金屬或非金屬材（cái）料（liào），使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空（kōng）鍍（dù）鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄（báo）膜的工藝過程。在光學零件表麵鍍（dù）膜的目的是為了達到減少或增（zēng）加光的反射、分束、分（fèn）色、濾光（guāng）、偏振等要求。常用的鍍（dù）膜法有真空（kōng）鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。