主要型號:
型號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 蕞大(dà)峰值電流(A) | 外形(xíng)尺寸(cùn) | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點:
A 可選擇三角波、矩形波、正弦波三種波形,波(bō)形的蕞高值和蕞低值(zhí)可獨立設置。
B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空(kōng)比10%~90%
E 可選擇手動控製/模擬量接口控製,可選配RS485通訊接(jiē)口。
采用(yòng)先進的PWM脈寬調製技術,使用進(jìn)口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體(tǐ)積小(xiǎo)、重量輕、功能全、性能穩定可靠,生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係(xì)統(tǒng),充分保證鍍膜工藝的重複(fù)性(xìng),
並且具有抑製靶材弧光放(fàng)電及抗短路功能,
具有極佳的負載(zǎi)匹配能力,既保證了靶麵清洗工(gōng)藝的(de)穩定性,又提高了靶麵清洗速度;
主要(yào)參數均可大範圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便(biàn)實現自動化控製。
主要用(yòng)途:
MS係列(liè)勵磁多波形電源選擇多種電壓波形(xíng)輸出。通過驅(qū)動(dòng)多弧靶外圍磁(cí)場線圈(quān),產生周期(qī)性可變(biàn)磁(cí)磁場,使多弧輝光由原來的集中放電變為均(jun1)勻放電,提高工件膜(mó)層質量

現在工業區,在範圍上擴展的是越來越廣,跟隨国产成人AV三级在线观看行業的發展,現在機械設備(bèi)研發的是越來越多,當然啦,研發那(nà)麽多,在一些加工廠家肯定是要應用到的啦,在範(fàn)圍(wéi)上,在數量上都不會少,現在我(wǒ)們來了解下真空鍍膜電源這項項目吧!

1、在(zài)光學儀器中:人們熟(shú)悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀,以及日常生活用品(pǐn)中(zhōng)的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它們都離不開鍍膜技術,鍍製的薄膜(mó)有反射膜、增透膜和吸收(shōu)膜等幾種。
2、在信息存儲領域中:薄膜材(cái)料作為信息記錄於存儲介質(zhì),有其得天獨厚的優勢:由於薄膜很薄,可以忽略渦流損耗;磁化反轉極為迅速;與膜麵平行的雙穩態狀態容易保持等。為了更精密地記錄與存(cún)儲(chǔ)信息,必(bì)然要(yào)采用鍍膜技術。
3、在(zài)傳感器方麵:在(zài)傳感器中,多采用那些電(diàn)氣性質相對於物理量、化學量(liàng)及其變化來說,極為敏感(gǎn)的半導體材料。此外,其中,大多數利用(yòng)的是半(bàn)導體的表麵、界麵的性質(zhì),需要(yào)盡量增大其麵積,且(qiě)能工業化、低價格製作,因此,采用薄膜的情況很多(duō)。
4、在集(jí)成電路製造中:晶體管路中的保護層(SiO2、Si3N4)、電極管線(多晶矽、鋁、銅及其合金)等,多是采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發金屬技術、磁控濺射(shè)技術和射頻濺射技術。可見,氣相(xiàng)沉積是製備集成電路的核心技術之一。
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