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真空鍍膜是真空（kōng）應用領域（yù）的一個突破性技（jì）術，利用物（wù）理或者化學方法並吸（xī）收一（yī）係列新技術而成的工藝，目的就是為了在實際生產中為產品創（chuàng）造薄（báo）膜保（bǎo）護層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍三種。真空鍍膜電源廠家介紹（shào）真空鍍膜有什（shí）麽特點：
（1）成膜溫度低。鋼鐵行業（yè）中的熱鍍（dù）鋅鍍膜溫度一般是400℃～500℃，化學鍍膜（mó）溫度更（gèng）高達1000℃以上。這（zhè）樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質，而（ér）真（zhēn）空鍍膜的溫度低，可以降到常溫，避免了常規（guī）鍍膜工藝的弊（bì）端。
（2）蒸發源選擇自由度大。可選擇的鍍膜材料多而不受材料熔點限製，可鍍種類眾多的金屬（shǔ）氮化膜（mó），金屬氧化膜和金屬炭化物及（jí）各種複合膜。
（3）不使用有害氣體、液體，對環境無不利（lì）影響。在當前越來越重視環保（bǎo）的大（dà）趨勢下，這點極其可貴。
（4）帶鋼鍍膜質量好。能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍（dù）膜純度高，耐蝕性和附著力好。不（bú）存在熱鍍鋅中的漏鍍點、鋅（xīn）浪、鋅花等問題。
（5）工藝靈活，改變品種方便。可鍍單麵、雙麵和單層、多層及混（hún）合（hé）層。鍍膜厚（hòu）度易（yì）於控製。
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