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離子鍍種類很多，蒸發遠加熱方式有電阻加熱（rè）、 電子（zǐ）束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應加熱等。
離子（zǐ）鍍是真空室中，利（lì）用氣體放電或被蒸（zhēng）發（fā）物質（zhì）部分離化，在氣體離子或被蒸發物質（zhì）粒子轟擊（jī）作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把 輝（huī）光（guāng）放電現象、 等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了（le）膜質量，而（ér）且還擴大了薄膜的應用範圍。多弧電源其優點是薄膜 附著力強，繞射性好，膜（mó）材廣泛等。真空鍍膜（mó）電源廠家首次提出離子鍍原理（lǐ），起工作過（guò）程是：
先將真空室抽（chōu）至4×10（-3）帕以上的 真空度，再接通 高壓電源，在（zài）蒸發源與基片之間建立一個低壓（yā）氣體放電的 低溫等離子（zǐ）區。基片電極接上5KV直流負高壓，從（cóng）而（ér）形成輝光放電陰極。輝光放電去產（chǎn）生的惰性氣體離子進入陰極（jí）暗區被電場加速並轟擊基片表麵（miàn），對其進行清洗。然後計入鍍膜過程，加熱使（shǐ）鍍料氣化，起原子進入等離子區，與惰性氣體離子及電子發生碰（pèng）撞，少部分產生離化。離化後的例子及氣體離子以較高能量轟擊 鍍層表麵，致使膜層質量得到改善。
然而（ér）多弧離子鍍與一般的離（lí）子鍍有著很大的區別。多弧（hú）離子（zǐ）鍍采（cǎi）用（yòng）的是弧光（guāng）放電，而並不是傳統離子鍍的輝光放電進行（háng）沉積。簡單的說，多弧（hú）離子鍍的原理就是把陰極靶作為蒸發源，通過靶與陽極殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發，從而在空間中形成 等離子體，對基體進行沉積。
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