浙江MSD係列直流磁控濺（jiàn）射電源

主要型號：

主要特（tè）點：
   A 采用先進的電（diàn）流型開關電源技術（shù），減小輸出儲能（néng）元件（jiàn），
同時提高了抑製打火及重啟速度，應用（yòng）在鋁靶鍍膜優勢更為明（míng）顯。
   B 具（jù）備恒流/恒功（gōng）率模式可選。恒功率模式相對（duì）於（yú）傳統的恒流（liú）模式（shì），
更能保證鍍膜工藝的重複性。
  C 具（jù）有理想（xiǎng）的（de）電（diàn）壓陡降特性，自動（dòng）識別偽（wěi）打火現象（xiàng），
充（chōng）分滿足磁控濺射工藝過程的連續（xù）性。
  D 主要參（cān）數可大（dà）範圍調節
  E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
  F 采用進口（kǒu）大功率（lǜ）IGBT&MOS模塊
采用（yòng）先進的PWM脈寬調（diào）製技術（shù），使用進口（kǒu）IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產（chǎn）工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並（bìng）且具有抑製靶材弧光放（fàng）電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配（pèi）能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提（tí）高了靶麵（miàn）清洗速度；
主（zhǔ）要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用（yòng）途：

直流磁（cí）控濺射用於鍍製各種金屬

在電子（zǐ）科技快速發展的時（shí）代中，電源的應用（yòng）可以說是隨處可見的，或許正（zhèng）是因為電源的普遍應用，所以電源的類型也隨之而多（duō）樣。真空鍍膜電源是眾多電源類型中的一種，這種電源與普通的電源有一定的區別，單是電源的（de）外觀就有（yǒu）明顯的不同。

     真空鍍膜機光學鍍膜加工（gōng）上有什麽要注意的嗎？當光線進（jìn）入不（bú）同傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），大（dà）約有5%會被反射掉，在（zài）光（guāng）學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。現代光學（xué）透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增（zēng）透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以（yǐ）適當鍍膜，光線（xiàn）透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色（sè），鍍多層增透膜的鏡片則呈（chéng）淡綠色或（huò）暗（àn）紫色。

真空鍍膜機增透膜（mó）增加（jiā）透射光強度的實質是作為電磁（cí）波的光波（bō）在傳播的過程中，在不（bú）同（tóng）介（jiè）質的分界麵上，由於邊（biān）界（jiè）條件的不（bú）同，改變了（le）其能量的分布。對於單層薄膜來說，當增透膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的（de）奇數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分（fèn）別是介（jiè）質1、2的折射（shè）率），才（cái）可以使入射光全（quán）部透（tòu）過介質。一般光學透鏡都是（shì）在空氣中使用，對於一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到100%的增透效果（guǒ），可使（shǐ）n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜隻對某一特定波（bō）長的（de）電磁波增透，為使在更大範圍內和更（gèng）多波長（zhǎng）實現（xiàn）增（zēng）透，人們（men）利用（yòng）鍍多層膜來實現。

人們對增（zēng）透膜的利用有了很多的（de）經驗，發現（xiàn）了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術，因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索等（děng）各行各業，為人類（lèi）科技進步作出了重大貢獻。