北（běi）京（jīng）MSD係列直流磁（cí）控濺射電源

主要（yào）型（xíng）號：

主要特點：
   A 采（cǎi）用先（xiān）進的電流型開關電源（yuán）技術，減小（xiǎo）輸出儲能元（yuán）件，
同時提高（gāo）了抑製打火及重啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明（míng）顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功（gōng）率模式相對於（yú）傳統的（de）恒流模式，
更（gèng）能保證鍍膜工藝的重複性。
  C 具有理想的電壓陡（dǒu）降特性，自動識別偽打火現象（xiàng），
充分滿足磁（cí）控濺射（shè）工藝過程的連續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可選擇手（shǒu）動控製/模擬量接口控製，可（kě）選配RS485通訊接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工（gōng）藝嚴格完善（shàn）。
該係列產品采用（yòng）先進的（de）DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製（zhì）靶材弧光放電（diàn）及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能（néng）力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又（yòu）提高了（le）靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護（hù），可靠性高；
PLC接（jiē）口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途（tú）：

直流磁控濺射用於鍍製各種金屬

在電子科技快速發展的（de）時代中，電（diàn）源的應用可以說是隨處可見的，或許正是因為電（diàn）源的普遍應用，所以電源的類型也隨之而多樣。真空鍍膜電（diàn）源是眾多電源類型中的一種，這種電源（yuán）與普（pǔ）通的電（diàn）源（yuán）有一定的區別，單（dān）是電源的外觀就有明顯的不同。

     真空（kōng）鍍膜機（jī）光學（xué）鍍膜加工上有什麽要（yào）注意的嗎？當光線進入不同傳（chuán）遞物質時（如由空氣（qì）進入玻璃），大約（yuē）有5%會被反射掉，在光（guāng）學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達（dá）30%至（zhì）40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增（zēng）透膜可使反射減（jiǎn）少（shǎo）至1.5%，多層增透（tòu）膜則可讓反射降低至（zhì）0.25%，所以（yǐ）整個瞄（miáo）準鏡如果加以適當鍍膜，光線（xiàn）透穿（chuān）率可達95%。鍍了單（dān）層（céng）增透膜的（de）鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多（duō）層增透（tòu）膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質是作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介（jiè）質的分界麵上，由於（yú）邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對於單層薄膜來說，當增透膜（mó）兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長（zhǎng）的奇數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的折射率），才可以使入射光全（quán）部透過（guò）介質。一般光學（xué）透鏡都是（shì）在空氣中使用，對於一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到100%的增透效果（guǒ），可使n1=1.23，或接（jiē）近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜隻對某一特（tè）定波長的電磁波增透（tòu），為使在更大範圍內和更多波長實現（xiàn）增（zēng）透，人（rén）們（men）利用鍍多層膜來實現。

人們對增透（tòu）膜的利用有（yǒu）了（le）很多的經驗，發現了不少可以作為增透（tòu）膜的材料；同（tóng）時也（yě）掌握了不少先進的鍍膜技術，因此增透膜的（de）應用涉及醫學、軍事、太空探索（suǒ）等各行各業，為人類科技進步作出了重大（dà）貢獻。