直流磁控（kòng）濺（jiàn）射和中頻磁控濺射是常見的濺射鍍膜工藝，但這兩種常見的（de）濺射工藝有什麽區別1.直流磁（cí）控濺射濺射與氣壓（yā）的關係——要在一（yī）定範圍內提（tí）高電離率(在盡可能（néng）低的壓力下保持較高的電離率)，要提高均勻性，就要在保證膜的純度的同時增加壓力，而要提高膜

傳統水電鍍因其廢水處理成本高、能耗高、水（shuǐ）資源浪費嚴（yán）重、環境汙染嚴重（chóng）等問題，一直受（shòu）到國家和地（dì）方各級政（zhèng）府的製約（yuē）。真空鍍膜設備可以替代傳統水電鍍的表麵處理（lǐ）方式，實現傳（chuán）統水電鍍的技術升級改造（zào）。讓我（wǒ）們來看看它相對（duì）於傳統水電鍍的優勢。1.無環境汙染由

1.1真空鍍膜:在真空條件下在（zài）基材上製備（bèi）薄膜層的方法。1.2底物:膜層受體。1.3測試基材:在塗層過程開始、過程中或之後用於測量和/或測試的基材。1.4塗層材料:用（yòng）於製作塗層的原材料。1.5蒸發材料（liào）:真空蒸發中用於蒸發的塗（tú）層（céng）材料。1.6濺射

真空鍍膜應用廣泛，如真空鍍鋁、真空鍍膜在塑料等基材上，再經過不同顏（yán）色的染色處理，可用於家具、工藝品、燈飾（shì）、鍾表、玩具、汽（qì）車燈具、鏡子及軟包裝材料等產品的製造，裝飾（shì）效果非（fēi）常好。真空鍍膜技（jì）術的特點：1、塗層（céng）材料種類繁多：可作（zuò）為真空鍍膜蒸發材料（liào）有