上海HVP高壓窄脈（mò）衝電源（yuán）

主要型號：

主要特點：
   A具有行動穩定電壓功能，具有（yǒu）理想的電（diàn）壓陡降特性，
有效抑製（zhì）工件表（biǎo）麵打火，明顯提高鍍件的成品率、表麵光潔度和膜（mó）層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬（kuān）度25uS)。
   D 可選擇手（shǒu）動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調（diào）製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功（gōng）率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產（chǎn）品采用先進的DSP控製係統，充分（fèn）保證鍍膜工藝的重複（fù）性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極（jí）佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參（cān）數均可大範圍（wéi）連續調節；
方便（biàn）維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製（zhì）。

主要用途：

高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍膜工藝時被鍍工（gōng）件表麵的輝光清洗、鍍（dù）膜前的離子轟擊和鍍膜時的離子加速（sù）等。

社會不斷發展，技術也是不斷得在創新。真空（kōng）鍍膜電源（yuán）的運用範圍是越（yuè）來越廣泛了（le），真（zhēn）空鍍膜技術是一種新穎的材料（liào）合成與加工的新技術（shù），是表麵工程技術領域的重（chóng）要組成部分。隨著全球製造業（yè）高速發展，真空鍍（dù）膜技術應用越來越廣泛。從半導體集成電（diàn）路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製藥等行業的（de）發展來看，對真空鍍膜設備（bèi）、技術材（cái）料需求都在（zài）不斷增加（jiā），包括製造大規模集成（chéng）電路（lù）的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數（shù）據記錄儲存膜；充（chōng）分展示和應（yīng）用各種光學特性的光學膜；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜和（hé）增透膜；建築、汽車行業（yè）上應（yīng）用的玻（bō）璃鍍膜和裝飾膜；包（bāo）裝領域（yù）用防護膜、阻隔膜；裝飾材（cái）料上（shàng）具（jù）體各種功能裝飾效果的功能膜；工、模具表麵上應（yīng）用的耐磨超硬膜；納米材料研究（jiū）方（fāng）麵的（de）各種功（gōng）能性薄膜等。對於國內真（zhēn）空鍍膜設（shè）備（bèi）製造企業發展建（jiàn）議如下：

1、目（mù）前實體經濟走勢整體疲弱，複蘇充滿（mǎn）不確定性，經濟處於繼（jì）續探底過程，真（zhēn）空鍍膜設備製造企業應（yīng）著（zhe）力進（jìn）行產業結構優化升級（jí），重質量、重服務明確市場定位，大力研發擁有自主知識產權的新產品新工藝，提高產品質量（liàng）和服務水平。

2、依托信息化發展（zhǎn）趨勢，堅持“以信息（xī）化帶動（dòng）工業（yè）化，以工業化促進信息化”，走出一條科技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙（wū）染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持（chí），大力（lì）加強與擁有行業先進技術和工藝水平的科研院所、大型企業、高校（xiào）合作，使得新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的（de）應用（yòng）領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業等製造業將以信息化（huà）融合為重心，依靠技術進步（bù），更加（jiā）注重技術能力積累，製造偏向服務型，向世界真空鍍膜設備行業等製造業價值鏈高端挺進。