真空鍍膜電源的工作原理

直流電源工作原理（以常見的直流濺射鍍（dù）膜電源為例）
直流電源的輸（shū）出端連接到濺射靶材和鍍膜基底所在的真空腔體內。在真空環境下，電源提供穩定的直（zhí）流電壓（yā），使得靶材（cái）相對於基底帶負電。當電壓達到一定（dìng）程度時，腔體內的（de）氣體（通（tōng）常為惰性氣體，如氬氣）被電離形成等離子體，其中的正離（lí）子在電場作用下加速轟擊（jī）靶材表麵。靶材原子在離子轟擊下被濺射出來，然後沉積到基底表麵，從而形成鍍膜（mó）層（céng）。電源的作用就是持續穩定地提供這個驅動（dòng）離子轟擊以及維持等離子體的電壓，並且（qiě）通過調節輸出電壓、電流等（děng）參數來控製濺射速率等鍍膜相關參數。

交流電源工作原理（lǐ）（比如中頻、高頻電源（yuán）用於某些鍍膜工藝）
對於中頻（一般頻率在幾十千赫茲）和（hé）高頻（頻率更高，可達兆赫茲級別）電源（yuán），它（tā）們通過交變的電場來使氣體電離形成（chéng）等離子體。以中頻電源為例，其輸出的交變（biàn）電流會在真空腔體內（nèi）產生周期性變化的（de）電場，使得氣體分子（zǐ）在不同時刻分別被加速、電離，產生的等離子體中的離子周期性地轟擊靶材，實現材料的濺射和鍍膜。高頻電源則利用更高頻率的交變電場（chǎng），能更有效地產（chǎn）生高（gāo）密度的等離子體，適用於一些（xiē）對（duì）鍍膜質量（liàng）、鍍膜速率要求更高的工（gōng）藝場景。其工作過程中，電源的頻率（lǜ）、功率等參數對（duì）等離子體（tǐ）的狀態以及最終的鍍膜效果起著關鍵的調節作用。

脈衝電源工作原理
脈（mò）衝電源是按照一定的時間間隔輸出脈衝（chōng）式的電壓或電流。在脈衝的高電平階段，會在真空腔（qiāng）體內產生足夠強（qiáng）的電（diàn）場使（shǐ）氣體電離、驅（qū）動（dòng）離子轟擊靶材等，實現鍍膜材料的濺射或蒸發等過程；而在脈衝（chōng）的低電平階段，等離子體等狀態會短暫調整，這樣可以避免連續工作時可能（néng）出現的一些（xiē）諸如靶材（cái）過熱、等離子體不穩定等問題（tí）。通過調（diào）節脈衝的頻率、寬（kuān）度、幅值等（děng）參數，能夠精準地（dì）控製鍍膜過程中的瞬時（shí）功率、平均功率等，進而有效控製鍍膜的質量（liàng）和速率，尤其（qí）適用於一些對膜層微觀結構、性能要求特殊的（de）鍍（dù）膜（mó）應用。