真空（kōng）鍍膜（mó）機幾種鍍膜方法介紹

真（zhēn）空鍍膜設備的鍍膜工藝有（yǒu）很多。簡單來說，就是利用蒸發、濺射等方法，在真空環境下發射薄膜顆粒，將其沉積在金屬、玻（bō）璃、陶瓷、半導體、塑料件等物體上，形成客戶需要的各種塗（tú）層。在日常生活中較為常見（jiàn）的技術有真空蒸發、濺射鍍膜、離子鍍膜等

真空蒸發鍍膜:原理是（shì）用蒸發器在（zài）真空條件下加熱薄膜材料，使其汽（qì）化或升華。蒸發的粒子流（liú）直接指向基材，在基材（cái）上沉積固體薄膜。蒸發又可分（fèn）為電（diàn）子束（shù）蒸發、電（diàn）阻蒸發、感應蒸發等

濺射鍍（dù）膜:在真空條件下，對陰極施加（jiā）高壓電激發輝（huī）光放電，帶正電的氬離子與陰極靶（bǎ）材碰撞，使其射出薄膜顆粒，沉積在基材上，形成薄膜（mó）層。

離（lí）子塗層:離子塗層通常是指在塗層過程中產（chǎn）生大量離子的塗層方法。在膜的形成過程中，基底不斷受到高能粒子的（de）轟（hōng）擊，膜層的強度和（hé）附著力非（fēi）常強。當離子鍍用於生產高精度膜（mó）層時，可以過（guò）濾掉（diào）大顆粒離子，從而獲（huò）得高結構、高密度的膜（mó）層。

日常生（shēng）活中較常用的鍍膜技術就是這三種真空鍍膜設備。具體選擇取決於要塗覆的膜層（céng）類型、要塗覆的工件類（lèi）型等。