真空鍍膜應用（yòng）的主要方法

真空鍍膜應用，簡單來（lái）說就是（shì）指在（zài）真空環境下，利用蒸發、濺射以及後續的（de）冷凝等方（fāng）法，在（zài）金屬、玻璃、陶瓷、半導體、塑料件等物體上沉積金屬薄膜（mó）或塗層。真空鍍膜應用與傳統鍍膜方法相比，屬於幹式鍍膜方法，其主要（yào）方法有以下幾種:

真空蒸發鍍膜

原（yuán）理是用蒸發器在（zài）真空條件下（xià）加熱蒸發的物質，使其（qí）蒸（zhēng）發或升華。蒸發的離子流直接指向（xiàng）襯底，在襯底上沉積固體（tǐ）薄膜。

濺射沉積

濺射鍍（dù）膜是在真空條件下，對陰極施加2000V的高壓激發輝（huī）光放電的過（guò）程（chéng）。帶正電的氬離子與（yǔ）陰極碰撞，使（shǐ）其釋放（fàng）出原子（zǐ），這些原子隨後在惰性氣氛中沉（chén）積在襯底（dǐ）上，形成一層薄（báo）膜。

離子塗層

幹式螺杆泵生產廠家已經推出了真空離（lí）子（zǐ）鍍膜。它是在上述兩種真空鍍膜技術的基（jī）礎上，結合了兩者的工藝特點而發展起來的。在真空條件下，用氣體放電使工作（zuò）氣體或蒸發物質(膜材料)部分（fèn）電離，在離子轟擊下，蒸發物質或（huò）其反應物沉積在襯底表（biǎo）麵。在膜的形成過程中，基底總是受到高能粒子的轟擊，使其非常幹淨。

真空繞組鍍膜

真空纏繞鍍膜是一種利用物理（lǐ）氣相沉積（jī）對柔性基材進（jìn）行連續鍍膜的技術，以達到（dào）柔性基材的（de）某些功能和裝飾性能。