真空（kōng）鍍膜和光學鍍膜差異

一、概念差異

1.真空鍍膜是指（zhǐ）在高真空條件下加熱金（jīn）屬或非金屬材（cái）料，使其在被鍍物體(金屬、半導體或絕緣體)表麵蒸發凝結形成薄膜的一種方法。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2. 光學鍍膜是（shì）指在光學元件表麵塗覆一層(或多層（céng）)金屬（shǔ）(或（huò）介電)薄膜的工藝。在光學（xué）元件表麵塗膜的目的是為了減少（shǎo）或增加光的反射、分束、分色、過（guò）濾、偏振等要求。常（cháng）用的包覆方法有真空包覆(物理包覆的（de）一種)和化學（xué）包覆。

二、原則差異

1. 真空鍍膜是真空應用的一個重要方麵，它以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，吸收了電子束、分子束、離子（zǐ）束、等離子體束、射頻、磁控管等（děng）一係列新（xīn）技術，為科學研究和實際生產提供了薄膜製備的新工藝。簡單地說，就是在真空中蒸發或濺射（shè）金屬、合金或化合物，使其凝固並沉積在塗層物體(稱為基材、襯底（dǐ）或襯底（dǐ）)上的方（fāng）法。

2. 光的幹（gàn）涉在薄膜（mó）光學中有（yǒu）著廣泛的應用。光學薄膜技術常（cháng）用的方法（fǎ）是利用真空濺射在玻璃基板上塗覆薄膜（mó），一般（bān）用來控製基板對入（rù）射光束的反（fǎn）射（shè）率和透射率，以（yǐ）滿足（zú）不同的（de）需要。為了消除光學元件（jiàn）表麵的反射損耗，提高成像質量，在表麵塗覆一層或多層透明的（de）介電膜，稱為防反射膜或防反射（shè）膜。

隨著激（jī）光技術（shù）的發展，對膜層的反射率和（hé）透射率有了不同的要求，促（cù）進了多（duō）層高反射膜和寬帶增透膜的發展。為滿足各種（zhǒng）應用的需要，采用高反射膜製造（zào）偏光（guāng）反射（shè）膜、彩色光譜膜（mó）、冷光（guāng）膜、幹涉濾（lǜ）光片等。光學（xué）元件表麵塗覆後（hòu），光在膜層上多次反射和透射，形成多束幹涉。通過控製（zhì）膜層的折射率和厚（hòu）度，可（kě）以（yǐ）得（dé）到不同的光強分布，這是幹涉鍍膜的基（jī）本原理。

三、方法和材料的差異

1. 材料采用真空鍍膜法:

(1)真空蒸發鍍膜:對（duì）待鍍膜基材進行清洗後，置於鍍膜室內（nèi），將其抽（chōu）離，並將膜材加熱至高溫，使蒸汽達（dá）到13.3Pa左右，蒸（zhēng）汽分子飛向基材表麵，凝結成薄膜。

(2)陰極（jí）濺射鍍:將待鍍基材置於陰極對（duì）麵，將惰性氣（qì）體（tǐ）(如氬氣)引入真空室，保持（chí）壓力約1.33-13.3Pa，然後將陰極（jí）接2000V直流電源激發輝光放電。帶正電的氬離子與陰（yīn）極碰撞，使陰極射出（chū）原子。濺落的原子通過惰性氣氛沉積在（zài）襯底上，形成薄膜（mó）。

(3)化學氣相沉積:通過（guò）對選定的金屬或有機化合物進行熱分（fèn）解得到沉積薄膜的過程。

(4)離子鍍:離子鍍本質上是真空蒸發和陰極濺射的有機結合（hé），結合了兩者的工藝特點。各（gè）種塗裝方式的優缺點如表（biǎo）6-9所示（shì）。

2. 光學鍍膜方法材料

(1)氟化鎂:一種純度高的無色四方結晶粉末。用它（tā）來製作光學鍍（dù）膜可以提高透光率，防止（zhǐ）坍（tān）塌點。

(2)二氧化矽（guī）:無色透明晶體（tǐ），熔點高，硬度高（gāo），化學（xué）穩定性好。純度高，用它製備高質量的SiO2塗（tú）層，蒸發（fā）狀態好，無坍塌點。根據使用要求（qiú）分為（wéi）紫（zǐ）外線、紅（hóng）外線和可（kě）見光。

(3)氧化鋯:白色重晶態，高折射率，耐高溫。化學性（xìng）質穩定，純度（dù）高。可用於製備無斷（duàn）裂點的（de）高（gāo）質量氧化鋯（gào）塗層。