真空鍍膜有蒸發鍍膜、濺射鍍膜(mó)和(hé)離子(zǐ)鍍膜三種形式:當濺射鍍膜用高能粒子轟擊固體表麵時,可以獲得(dé)固體表麵的粒子。能量從表麵逸出並(bìng)沉積在基板上(shàng);離子鍍蒸發物質的分子通過電子撞擊被電離,並以(yǐ)離子(zǐ)的(de)形式沉積在固(gù)體表麵(miàn)。
所有(yǒu)三種形式的真空鍍膜(mó)技術都需要(yào)快速冷卻裝置來輔助真空鍍膜過程。由於工件在(zài)鍍膜過程中處於封閉的真空環境中,真空設備失去了很多產品技術和性能。現(xiàn)有的真空(kōng)鍍膜(mó)設備也有(yǒu)冷(lěng)卻裝置,但其冷卻(què)效果不是很理想。
不能滿足人們的需(xū)要,為彌補現有技術的不足,真空鍍膜電源廠家提供一種真(zhēn)空鍍(dù)膜設(shè)備手(shǒu)套箱蒸發一(yī)體機。該係統集成了真空鍍膜係統和手套箱係統,可在高(gāo)真空蒸發室中完成薄膜(mó)蒸發。樣(yàng)品在手套(tào)箱中的高純度(dù)惰性氣體氣(qì)氛下蒸發(fā)後儲存、製(zhì)備和測試。為保證塗層產品工藝和性能質量(liàng)要求而設置的快速(sù)冷卻係統,可實現快速(sù)冷卻自動控製的目的(de)。
蒸(zhēng)發鍍膜(mó)與(yǔ)手套箱相結合,實現了蒸(zhēng)發、封裝、測試等過程(chéng)的全封閉生產,使整個薄膜生長和器件(jiàn)製備過程高度集成在一個環境氣氛(fēn)可控的完整係統中,無需有機大(dà)-區域電路準備。大氣(qì)環境中不穩定因素的影響,保證了高性能、大麵積有機光電器件和電路的製備。
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