主要型(xíng)號(hào):
型號 | 功(gōng)率 (kW) | 最大工作 電流(A) | 外形 尺(chǐ)寸 | 冷卻 方式 | 空載電(diàn)壓 (V) | 工作電壓 (V) |
MSDP-10k | 10 | 12.5 | 1單(dān)元 | 風冷 | 1000 | 200~800V |
MSDP-20k | 20 | 25 | 1單元 | |||
MSDP-30k | 30 | 37.5 | 2單元 | |||
MSDP-40k | 40 | 50 | 2單元 |

主要特點:
A 明顯改(gǎi)善靶麵電荷積累現象,減小濺射表麵的(de)打火次數,提高膜層質(zhì)量。
B 具有平均電源穩定功能,具有理想的(de)電壓陡降特性,
充分滿足磁控濺射工藝過程的(de)連續性。
C 空載(zǎi)電壓≥1000V,工作電(diàn)壓200~800V。
D 頻率40kHz,占空比20%~80%。
E 可選擇手動(dòng)控製/模擬量(liàng)接口(kǒu)控製,可選配RS485通訊(xùn)接口。
采用(yòng)先進(jìn)的PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕(qīng)、功能全、性能穩定可靠,生產工藝(yì)嚴格完善。
該(gāi)係列產品采用先進的(de)DSP控(kòng)製係統(tǒng),充分保證鍍膜(mó)工藝的重複性,
並(bìng)且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能,
具有極佳的負載(zǎi)匹配能力,既保證(zhèng)了靶麵清洗工藝的穩定性,又(yòu)提高了(le)靶麵清洗速度;
主要參數均可大範圍(wéi)連續調節;
方便維護,可靠性高(gāo);
PLC接口和RS485接口擴展功(gōng)能,方便實現自動化控(kòng)製。
主要用途:
單極脈衝磁控濺射適用於(yú)金屬、合金及石墨等靶材鍍製金屬膜、碳膜和部分氧化(huà)物、氮化物及碳化物膜。
鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗,這種清(qīng)洗(xǐ)要求很高,達到分子級。在清洗槽中分別(bié)放置各種清洗液,並采用(yòng)超聲波加強(qiáng)清洗效果,當鏡片清(qīng)洗完後,放進真空艙內,在此過(guò)程(chéng)中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗(xǐ)是在真空艙內,在此(cǐ)過程中要特別注(zhù)意避(bì)免(miǎn)空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真(zhēn)空艙內鍍前(qián)進行的,放置在(zài)真空艙內的離子槍將轟擊鏡片(piàn)的表麵(例如用氬離子),完成此道清(qīng)洗工序(xù)後即進行減反射膜的鍍膜。
真空鍍膜電源為什麽在現在會應(yīng)用那麽多呢,有哪些(xiē)明顯的效果?

概念的(de)區別:
1、真空鍍(dù)膜是指在高真空的條(tiáo)件下(xià)加熱金(jīn)屬或(huò)非金屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵而形成(chéng)薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁(lǚ)、真空(kōng)鍍(dù)鉻等。
2、光學鍍膜是指在光學(xué)零件表麵上鍍上(shàng)一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝(yì)過程。在光學零件表麵鍍膜的目的是為了(le)達到(dào)減(jiǎn)少(shǎo)或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一(yī)種)和化學鍍膜。