江蘇MSDP單極（jí）脈（mò）衝磁控濺射電源

主要型（xíng）號（hào）：

主要特點：
   A 明顯改（gǎi）善靶麵電荷積累現象，減小濺射表麵的（de）打火次數，提高膜層質（zhì）量。
   B 具有平均電源穩定功能，具有理想的（de）電壓陡降特性，
充分滿足磁控濺射工藝過程的（de）連續性。
   C 空載（zǎi）電壓≥1000V，工作電（diàn）壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動（dòng）控製/模擬量（liàng）接口（kǒu）控製，可選配RS485通訊（xùn）接口。
采用（yòng）先進（jìn）的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕（qīng）、功能全、性能穩定可靠，生產工藝（yì）嚴格完善。
該（gāi）係列產品采用先進的（de）DSP控（kòng）製係統（tǒng），充分保證鍍膜（mó）工藝的重複性，
並（bìng）且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載（zǎi）匹配能力，既保證（zhèng）了靶麵清洗工藝的穩定性，又（yòu）提高了（le）靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍（wéi）連續調節；
方便維護，可靠性高（gāo）；
PLC接口和RS485接口擴展功（gōng）能，方便實現自動化控（kòng）製。

主要用途：

單極脈衝磁控濺射適用於（yú）金屬、合金及石墨等靶材鍍製金屬膜、碳膜和部分氧化（huà）物、氮化物及碳化物膜。

鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗，這種清（qīng）洗（xǐ）要求很高，達到分子級。在清洗槽中分別（bié）放置各種清洗液，並采用（yòng）超聲波加強（qiáng）清洗效果，當鏡片清（qīng）洗完後，放進真空艙內，在此過（guò）程（chéng）中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗（xǐ）是在真空艙內，在此（cǐ）過程中要特別注（zhù）意避（bì）免（miǎn）空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真（zhēn）空艙內鍍前（qián）進行的，放置在（zài）真空艙內的離子槍將轟擊鏡片（piàn）的表麵（例如用氬離子），完成此道清（qīng）洗工序（xù）後即進行減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什麽在現在會應（yīng）用那麽多呢，有哪些（xiē）明顯的效果？

概念的（de）區別：

1、真空鍍（dù）膜是指在高真空的條（tiáo）件下（xià）加熱金（jīn）屬或（huò）非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形成（chéng）薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁（lǚ）、真空（kōng）鍍（dù）鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學（xué）零件表麵上鍍上（shàng）一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝（yì）過程。在光學零件表麵鍍膜的目的是為了（le）達到（dào）減（jiǎn）少（shǎo）或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一（yī）種)和化學鍍膜。