真空鍍膜和光學鍍膜差異

一、概念差（chà）異（yì）

1.真空鍍膜是指在高真空條件下加熱金屬（shǔ）或（huò）非金屬（shǔ）材料，使其在被鍍物體(金屬、半導體或絕緣體)表麵蒸發凝結形成薄膜的一種方法。如真空鍍（dù）鋁（lǚ）、真空鍍鉻等。

2. 光學鍍膜是指在光學元件（jiàn）表麵塗覆一層(或多層)金屬(或介電（diàn）)薄膜的工藝（yì）。在光學元件表麵塗膜的目的是為（wéi）了（le）減少（shǎo）或增加光的反射、分束、分色、過濾（lǜ）、偏振等要求。常（cháng）用的包（bāo）覆方法有真空包（bāo）覆（fù）(物理（lǐ）包覆的一種)和化學包覆。

二、原則差異（yì）

1. 真空鍍膜是真空應用的一個重要方麵（miàn），它以真空技（jì）術為基礎，利用物理或化學方法，吸收了電子束、分子束（shù）、離子（zǐ）束、等離子體（tǐ）束（shù）、射頻、磁控（kòng）管等一係列新技術，為科學（xué）研究和實際生產提供了薄膜（mó）製備的新工（gōng）藝。簡單地（dì）說，就（jiù）是在真空中蒸發或濺射金屬、合金或化合物，使其凝固並沉積在塗層物體(稱為（wéi）基材、襯底或襯底)上（shàng）的方法。

2. 光的幹涉在薄（báo）膜光學中有著廣泛（fàn）的應用（yòng）。光學薄（báo）膜技術常（cháng）用的方法是利用真空濺射在玻璃基板上塗覆薄膜，一般用來控製基（jī）板對入射光束的（de）反射率和透射率，以滿足不同的需要。為了消除光學元件表麵的反射損耗，提高成像質量，在表麵塗覆一層或多層透明的（de）介電膜，稱為防（fáng）反射膜（mó）或防反射膜。

隨著激光技術的（de）發展，對膜層的反射率和透（tòu）射率有了不同的要求，促進了多層高反射膜和寬（kuān）帶增透膜的發展。為（wéi）滿足各種（zhǒng）應用的需要，采用（yòng）高反射膜（mó）製造偏光反射膜、彩色光譜膜、冷光膜（mó）、幹涉濾光片等。光學元（yuán）件表麵（miàn）塗覆後，光在膜層上多（duō）次反射和透射，形成多束（shù）幹涉。通過（guò）控製膜層的折射（shè）率和厚度，可以得（dé）到不同的光強分布，這是幹涉鍍（dù）膜的基本原理。

三、方（fāng）法和材料的差異

1. 材料采用真空鍍膜法:

(1)真空蒸發鍍膜:對待鍍膜基材進行清洗後，置於鍍膜室內，將其抽離，並將膜材加熱至（zhì）高溫，使蒸汽達到13.3Pa左右，蒸汽分子飛（fēi）向基材表麵，凝結成薄膜（mó）。

(2)陰極濺射鍍:將待鍍基材置於陰極對麵，將惰性氣體(如（rú）氬氣)引入真空室，保（bǎo）持壓力約1.33-13.3Pa，然後將陰極接（jiē）2000V直流電源（yuán）激發輝（huī）光（guāng）放電（diàn）。帶正電的氬離子與陰極碰撞，使陰極（jí）射出（chū）原子。濺（jiàn）落（luò）的原子通過（guò）惰性（xìng）氣氛沉積在襯底上（shàng），形成（chéng）薄膜（mó）。

(3)化學氣相沉積:通過對選定的金屬或有機化合物進行熱分解得（dé）到沉積薄膜的過（guò）程。

(4)離子鍍:離子（zǐ）鍍本質上是真空蒸發和（hé）陰極濺射的有機結合，結合了兩者的工藝特點。各種塗裝（zhuāng）方式的優缺點如表6-9所示。

2. 光學鍍膜方法材（cái）料

(1)氟化鎂:一種純度高的無色四方結晶粉末。用它來製作（zuò）光學鍍膜可以提高透光率，防止（zhǐ）坍塌（tā）點。

(2)二氧化矽:無色（sè）透明晶體，熔點高，硬度高（gāo），化學穩定性好。純度高，用它製（zhì）備高質量的SiO2塗（tú）層，蒸發狀態（tài）好，無坍塌點。根據使用要求分為紫外線、紅外線和可見光。

(3)氧化鋯:白色重（chóng）晶態，高折射率，耐高溫。化學性（xìng）質穩定，純度高。可用於製備無斷裂點的高質量氧化鋯塗層。